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湖北真空镀膜设备 维修

更新时间:2025-10-05      点击次数:3

【真空镀膜设备之涡轮分子泵】: 涡轮分子泵:涡轮分子泵是利用高速旋转的动叶轮将动量传给气体分子,使气体产生定向流动而抽气的真空泵。主要用于高真空或超高真空,属于干泵,极限真空10&7~10&8Torr,烘烤后可到10&10Torr,抽速可从50L/S~3500L/S。分子泵是靠高速转动的涡轮转子携带气体分子而获得高真空、超高真空的一种机械真空泵。泵的转速为10000转/分到50000转/分,这种泵的抽速范围很宽,但不能直接对大气排气,需要配置前级泵。分子泵抽速与被抽气体的种类有关,如对氢的抽速比对空气的抽速大20%。 真空镀膜设备的主要应用。湖北真空镀膜设备 维修

【光谱分光不良的补救(补色)之停电】: 分光不良分为二种情况:一是全部膜系镀制完成后,经测试分光不良,此类不良主要按六节所述方法处理,一般减反膜难以补救。但对于高反膜、带通滤光膜等可以通过加层的方法补救。二是镀制中途中断(包括发现错误中断)造成的分光不良,一般都可以通过后续努力补救。后续方法正确,补救成功率比较高。 中断的原因形式之停电: 对于停电这种情况,比较好处理,只要确认前面镀的没错,程序没有用错,就可以继续原来的程序,要注意的是:如果某一层镀了一部分继续镀下去时,交接处要减少一些膜厚(根据膜料、蒸发速率决定减少多少,一般时0.2~1nm左右),如果该层剩下的膜厚不足15~20秒蒸镀时,要考虑降低蒸发速率或干脆不读,通过后续层调整膜厚解决。上海ito真空镀膜设备红外真空镀膜设备制造商。

【真空镀膜真空溅射法】: 真空溅射法是物理qi相沉积法中的后起之秀。随着高纯靶材料和高纯气体制备技术的发展,溅射镀膜技术飞速发展,在多元合金薄膜的制备方面显示出独到之处。其原理为:稀薄的空气在异常辉光放电产生的等离子体在电场的作用下,对阴极靶材料表面进行轰击,把靶材料表面的分子、原子、离子及电子等溅射出来,被溅射出来的粒子带有一定的动能,沿一定的方法射向基体表面,在基体表面形成镀层。特点为:镀膜层与基材的结合力强;镀膜层致密、均匀;设备简单,操作方便,容易控制。 主要的溅射方法有直流溅射、射频溅射、磁控溅射等。目前应用较多的是磁控溅射法。

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之破边、炸裂】: 一般的镀膜会对基片加热,由于基片是装架在金属圈、碟内,由于镜圈或碟片与镜片(基片)的热膨胀系数不一致,冷却过程中会造成镜片的破便或炸裂。 有些大镜片,由于出罩时的温度较高,与室温的温差较大,镜片的热应力作用造成镜片炸裂或破边。有些零件边缘倒边的形状容易造成卡圈而破边。 改善对策: 1. 夹具(镜圈、碟片)的设计,在尺寸配合上要合理,充分考虑制造误差带来的影响。 2. 注意镜圈、碟片的变形,已经变形的夹具不能使用。 3. 选用合适的夹具才来哦(非导磁材料、不生锈、耐高温不变性),不锈钢较为理想(热变形系数小),就是加工难度大,价格贵。 4. 对于大镜片应降低出罩时的温度,减少温差,防止炸裂。 5. 如果时镜圈,可以考虑在镜圈上开槽,作为缓冲。真空镀膜设备升级改造。

【真空镀膜产品常见不良分析及改善对策之膜外色斑】: 色斑(也称膜色亚克、烧蚀)是指镜片上的膜色局部变异。有膜内色斑和膜外色斑二种。 膜外色斑改善对策: 1. 对减反膜,设计条件许可时,外层加以SiO2层,10nm左右即可(一般的外层膜是MgF2)。使外层趋于光滑、致密、减少有害物质的侵蚀。 2. 适当降低蒸镀速率(在一定范围内),提高膜层光滑度,减少吸附。 3. 镜片在出罩后,待冷却后再下伞和擦拭。 4. 镜片在出罩后,放置在洁净干燥的场合待冷却。减少污染可能。 5. 用碳酸钙粉,轻擦去除外层附着物。 6. 改善工作环境的湿度、温差 7. 改善充气口附近的环境,使充入的大气干燥、洁净。 8. 工作人员的个人卫生改善 9. 检讨真空室返油状况,防止返油。 10. 适当降低基片温度。 11. 改善膜系,取消太薄的膜层,根据硝材特性,选择合适的膜层材料。真空镀膜设备操作培训。上海ito真空镀膜设备

真空镀膜设备怎么保养?湖北真空镀膜设备 维修

【真空镀膜改善基片与膜的结合】: 1. 加强去油去污处理,如是超声波清洗,重点考虑去油,若是手擦,考虑先用碳酸钙粉擦再清擦; 2. 加强镀前烘烤; 3. 有条件时,机组安装冷凝及(POLYCOLD); 4. 提高真空度; 5. 有条件时,机组安装离子源; 6. 膜料的去潮; 7. 保持工作环境的干燥; 8. 对于多层膜,在膜系设计时,就要考虑第yi层膜与基片的匹配; 9. 采取研磨液复新去除镜片表面的腐蚀层; 10. 有时候适当降低蒸发速率对膜强度的提高有帮助,对提高膜表面光滑度有积极意义。 湖北真空镀膜设备 维修

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